威尼斯官网在线-澳门在线威尼斯官方

 
您好！欢迎来到大家的官方网站
江苏沃泽光电科技有限企业
主要经营超高压水银氙气灯、光刻机汞灯、短弧汞灯、曝光机汞灯
13774227999
沃泽光电科技
使用领域：半导体光刻，医疗 TP TFT-LCD PDP PCB FPC 印刷诸多领域。
24小时服务热线

资讯详情
News details
半导体光刻工艺流程示意图
来源:江苏沃泽光电科技有限企业 | 编辑:江苏沃泽光电科技有限企业 | 发布时间: 2020-08-14 | 2181 次浏览 | 分享到:
半导体光刻工艺流程示意图




半导体光刻工艺三种曝光方式
紫外线光源一般是利用紫外光（波长365nm、436nm）和远紫外光（193nm、248nm）的波段，常见曝光方式有接触式、接近式和投影式三种，如下图：


不同曝光方式的优劣势对比



主流平行曝光方式及系统示意图


威尼斯官网在线|澳门在线威尼斯官方

XML 地图 | Sitemap 地图