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江苏沃泽光电科技有限企业
主要经营超高压水银
氙
气灯、
光刻机汞灯、短弧汞灯
、
曝光机汞灯
13774227999
沃泽光电科技
使用领域:半导体光刻,医疗 TP TFT-LCD PDP PCB FPC 印刷诸多领域。
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影响光刻机工作的重点是什么
技术详情
Technical details
影响光刻机工作的重点是什么
来源:
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编辑:
江苏沃泽光电科技有限企业
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发布时间:
2020-09-11
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影响光刻机工作的重点是什么
?光刻机就是放大的单反,利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光,类似照相机照相,使薄片具有电子线路图的作用
光源是光刻机核心来源,光刻机的工艺能力取决于其光源的波长。
光刻机的光源是采用汞灯产生的紫外光源(UV:UltravioletLight),从g-line到i-line,波长缩小到365nm,实际对应的分辨率大约在200nm以上。
业界采用了准分子激光的深紫外光源。将波长进一步缩小到ArF的193nm,ArF加浸入技术(ImmersionTechnology)成为了主流。
就是让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中。由于液体的折射率大于1,使得激光的实际波长会大幅度缩小。
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