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江苏沃泽光电科技有限企业
主要经营超高压水银氙气灯、光刻机汞灯、短弧汞灯、曝光机汞灯
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沃泽光电科技
使用领域：半导体光刻，医疗 TP TFT-LCD PDP PCB FPC 印刷诸多领域。
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影响光刻机工作的重点是什么
来源: | 编辑:江苏沃泽光电科技有限企业 | 发布时间: 2020-09-11 | 987 次浏览 | 分享到:
　　影响光刻机工作的重点是什么？光刻机就是放大的单反，利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，类似照相机照相，使薄片具有电子线路图的作用

　　光源是光刻机核心来源，光刻机的工艺能力取决于其光源的波长。

　　光刻机的光源是采用汞灯产生的紫外光源(UV:UltravioletLight)，从g-line到i-line，波长缩小到365nm，实际对应的分辨率大约在200nm以上。

　　业界采用了准分子激光的深紫外光源。将波长进一步缩小到ArF的193nm，ArF加浸入技术(ImmersionTechnology)成为了主流。

　　就是让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中。由于液体的折射率大于1，使得激光的实际波长会大幅度缩小。

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