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半导体光刻工艺流程示意图
来源:江苏沃泽光电科技有限企业 | 编辑:江苏沃泽光电科技有限企业 | 发布时间: 2020-08-14 | 1139 次浏览 | 分享到:
半导体光刻工艺流程示意图




半导体光刻工艺三种曝光方式

紫外线光源一般是利用紫外光(波长365nm、436nm)和远紫外光(193nm、248nm)的波段,常见曝光方式有接触式、接近式和投影式三种,如下图:


不同曝光方式的优劣势对比



主流平行曝光方式及系统示意图


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